Caracterización óptica de películas delgadas foto-depositadas de Ga2O3 co-dopadas con Tb3+ y Mn2+
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2010
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Resumen
A través de un método de deposición fotoquímica, se depositaron capas de
complejos metálicos β-dicetonatos de Ga(acac)3 dopada con Tb(acac)3 y codopada
con Mn(acac)2 al 10% en mol sobre sustratos de Si (100). Las soluciones
de los complejos fueron depositadas sobre el sustrato y fueron irradiadas bajo luz
UV a 254nm durante 24 horas por un periodo de seis días, para generar la
formación de películas de Ga2O3-Tb y Ga2O3-Tb-Mn. El método de fotodeposición
utilizado en este trabajo fue Photochemical Metal Organic Deposition (PMOD), el
cual implica la formación de películas delgadas amorfas estables, para esto debe
depositar un complejo metálico u organometalico sobre la superficie de un
sustrato, mediante la técnica de sping-coating, para luego irradiar la muestra con
luz UV y así obtener la perdida de los ligandos y generar la deposición del metal o
del óxido metálico.
Los depósitos obtenidos mediante esta técnica, fueron caracterizados en su
composición por Espectroscopia de foto-electrónica de rayos X (XPS).
Las propiedades ópticas y fotoluminiscentes (PL) de las películas formadas
se determinaron por espectroscopía UV-visible y por espectroscopía de
fluorescencia.
Descripción
Memoria (Profesor de Enseñanza Media de Ciencias Naturales. Mención Química) -- Universidad del Bío-Bío. Chillán, 2010.
Palabras clave
PELICULAS DELGADAS-INVESTIGACIONES, FOTOQUIMICA, PELICULAS DELGADAS-PROPIEDADES OPTICAS, OXIDO DE GALIO, PELICULAS DELGADAS, CARACTERIZACION
